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a的负一次方是多少矩阵,a的负一次方是多少线性代数 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息,国家知(zhī)识产权局局长(zhǎng)申长(zhǎng)雨在新闻发布(bù)会(huì)上(shàng)表示,将统筹推进各(gè)类知识产权法(fǎ)律法(fǎ)规和制度规(guī)则的制修订工作。其中,修改完善(shàn)集(jí)成电路(lù)布图设计保护条(tiáo)例,适应大规(guī)模集(jí)成(chéng)电路发展需要,助(zhù)力芯片(piàn)产业(yè)做大(dà)做强,服务数(shù)字经济更好(hǎo)发展。

  加(jiā)强大数(shù)据、人工(gōng)智(zhì)能、基因技术等新领(lǐng)域新业态知识产权规则(zé)研究(jiū),助(zhù)力相关领域创新发展(zhǎna的负一次方是多少矩阵,a的负一次方是多少线性代数)。同时,积极参(cān)与知识产权国际规则(zé)制(zhì)定(dìng),更好(hǎo)对接高标准(zhǔn)国际经贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开放。

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