大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司在(zài)华销售的产品(pǐn)未通过网(wǎng)络安全审(shěn)查

　　据网信办消息，日前，网络安全审查办公室依(yī)法对美(měi)光公司在华销(xiāo)售产品进行了网(wǎng)络安(ān)全审查。

　　审(shěn)查发现，美光公司产品存在较严(yán)重网络安全问题隐患，对(duì)我国关键信息(xī)基(jī)础设施供应链(liàn)造成重大安全风险，影响我国国(guó)家(jiā)安全(quán)。为此，网(wǎng)络(luò)安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)作出不(bù)予通过网(wǎng)络安全审查的结(jié)论。按照《网络(luò)安全法》等(děng)法律法规，我国内关键信(xìn)息基础(chǔ)设(shè)施的运营者应停止采购美光公(gōng)司产品。

　　此次对(duì)美(měi)光公司产品进(jìn)行网络(luò)安全审查(chá)，目的是(shì)防范产(chǎn)品网络安(ān)全问(wèn)题危害国家关键信息基础(chǔ)设施安全(quán)，是维护(hù)国家安全的必(bì)要措施(shī)。中国(guó)坚定推进高(gāo)水平对外开放，只要遵(zūn)守中国法律法规要求，欢迎(yíng)各国企业、各类平台产品服务进入(rù)中国市场。

　　3月31日，中国网信网发文称，为保障关键(jiàn)信(xìn)息(xī)基础设施供(gōng)应(yīng)链安全，防范产品问题(tí)隐患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依据《中(zhōng)华人(rén)民共(gòng)和国国(guó)家安(ān)全(quán)法》《中华人民(mín)共和(hé)国网络(luò)安全法》，网络安全审查办(bàn)公室按(àn)照《网络安(ān)全审查办法》，对(duì)美光(guāng)公司(sī)（Micron）在(zài)华销售(shòu)的(de)产(chǎn)品实施网络安全审查。

　　美(měi)光是美国的存储芯(xīn)片行业龙头，也是全球存储芯片巨头之一，2022年(nián)收入来(lái)自中国市(shì)场收(shōu)入从此前高峰(fēng)57％降至(zhì)2022年(nián)约11％。根据市场(chǎng)咨(zī)询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三(sān)星电子(zi)、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在(zài)全球(qiú) NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士(shì)、美光在全球 DRAM （内存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司中，江(jiāng)波龙、佰维存(cún)储等(děng)公司披露过美(měi)光等国际存储厂商为公司(sī)供应商。

　　美光(guāng)在江波龙采(cǎi)购(gòu)占比已经显著(zhù)下降，至少已(yǐ)经不是(shì)主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波龙第一大(dà)存(cún)储(chǔ)晶圆供应商(shāng)，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大(dà)、第二大和第三大(dà)供应商采购金额占比分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波(bō)龙(lóng)已经在(zài)存(cún)储产业链(liàn)上下游建立国内(nèi)外(wài)广泛合作(zuò)。2022年(nián)年报显示，江波龙与三星、美光(guāng)、西部(bù)数据等主(zhǔ)要存(cún)储晶(jīng)圆原厂(chǎng)签署(shǔ)了长(zhǎng)期合约，奶茶色口红适合什么肤色的人，肉桂奶茶色口红适合什么肤色确(què)保(bǎo)存储晶圆供(gōng)应的稳定性，巩固公司在下游市场奶茶色口红适合什么肤色的人，肉桂奶茶色口红适合什么肤色(chǎng)的供(gōng)应优(yōu)势(shì)，公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保(bǎo)持良(liáng)好的合作(zuò)。

　　有券商(shāng)此前就分析，如果美光(guāng)在中(zhōng)国区销售受到限制，或(huò)将导致下游(yóu)客(kè)户转(zhuǎn)而采(cǎi)购国(guó)外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对(duì)产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上(shàng)游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受(shòu)益。存储器(qì)的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在(zài)已经进(jìn)入3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结构转变使(shǐ)刻(kè)蚀和薄(báo)膜成为最关键、最(zuì)大(dà)量的加工设(shè)备。3D NAND每(měi)层均需要经过薄膜(mó)沉积工艺步骤，同时刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能(néng)会更深的孔或者沟槽(cáo)，催生更(gèng)多设备需(xū)求。据东京电子披露，薄膜沉积设备(bèi)及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支合(hé)计为75％。自长(zhǎng)江存储被加入美国限制名单，设备国产化进(jìn)程(chéng)加速，看好拓荆科技（薄膜沉(chén)积）等(děng)相关公司份额提升，以及(jí)存储业务(wù)占比较(jiào)高的华(huá)海清科（CMP）、盛美上(shàng)海（清洗）等收入增(zēng)长。

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