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　　美光公司在华(huá)销售的产品未通过网络安(ān)全审查

　　据网信办(bàn)消息，日(rì)前(qián)，网络安全(quán)审查办(bàn)公(gōng)室依法对美(měi)光公司在华销售产品进行了网络安全审查(chá)。

　　审查(chá)发现(xiàn)，美光公司产品存在较(jiào)严重网络安全问(wèn)题隐患，对我(wǒ)国(guó)关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施(shī)供应链造成重大安全风(fēng)险，影(yǐng)响我国国家安全。为此，网络安全审查办公室依法作出不(bù)予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论。按照《网络安全法》等法律法规(guī)，我国(guó)内关键信息(xī)基(jī)础设施(shī)的运营者应停(tíng)止采购美光(guāng)公司产品。

　　此次对(duì)美光公司产品(pǐn)进(jìn)行网络安全审查，目的是防范产品(pǐn)网络安全(quán)问(wèn)题危害国(guó)家关键信息基础设施安全，是维护国家安(ān)全的(de)必要措施。中国坚定推(tuī)进(jìn)高水平(píng)对外开放，只要遵(zūn)守中国法律法规要求，欢迎各国企业、各类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市(shì)场。

　　3月31日(rì)，中国网信(xìn)网发文称，为(wèi)保障关键信(xìn)息基(jī)础设施(shī)供应链安全(quán)，防范产品(pǐn)问题隐(yǐn)患造成网(wǎng)络安全风险，维护(hù)有白头发染什么颜色好，有白头发染什么颜色好看国家安全，依据《中(zhōng)华人民共和国国家(jiā)安(ān)全法》《中华人民共(gòng)和国(guó)网络(luò)安全法(fǎ)》，网络安全审查办(bàn)公室按(àn)照《网络(luò)安全审查办法》，对(duì)美光公司（Micron）在华(huá)销售的产品实(shí)施网络安全审查。

　　美(měi)光是美国(guó)的存(cún)储(chǔ)芯片行业龙头，也是全球(qiú)存储(chǔ)芯片(piàn)巨头之一，2022年(nián)收入来自中国市场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根(gēn)据(jù)市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西(xī)部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存）市场份额约(yuē)为(wèi) 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士、美(měi)光在全球 DRAM （内存(cún)）市场份额(é)约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市(shì)公司中，江波龙、佰维存储等公司披露过(guò)美光等国际存储厂商为公司供应商。

　　美光在江波龙采(cǎi)购(gòu)占比已(yǐ)经显著(zhù)下降(jiàng)，至少已经不是主(zhǔ)要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位列(liè)江波(bō)龙第一大存储晶(jīng)圆供应商(shāng)，采(cǎi)购(gòu)约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年(nián)，江波龙第一大、第二(èr)大和第三大(dà)供(gōng)应(yīng)商采购金额(é)占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江波龙(lóng)已经(jīng)在(zài)存储产(chǎn)业链上下游建立国内外广(guǎng)泛合作(zuò)。2022年(nián)年报(bào)显(xiǎn)示(shì)，江波龙与(yǔ)三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂(chǎng)签署了长期合约，确保存储晶圆供(gōng)应的(de)稳定性，巩固公司(sī)在下游市(shì)场的供应优势，公司(sī)也与国内国(guó)产存(cún)储(chǔ)晶圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥(féi)长鑫保持良(liáng)好(hǎo)的合作。

　　有券商此(cǐ)前就(jiù)分析(xī)，如果美光在中国区销售受到限制，或(huò)将导致下游客户(hù)转而(ér)采(cǎi)购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存储、长鑫(xīn)存储等竞对产(chǎn)品

　　分析称(chēng)，长存、长(zhǎng)鑫的上游设备厂(chǎng)或从(cóng)中(zhōng)受益。存储器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外(wài)NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需要经(jīng)过薄膜(mó)沉积工艺步(bù)骤，同(tóng)时刻蚀目前(qián)前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能会更(gèng)深的孔或者沟槽(cáo)，催生更多设备需求。据(jù)东京电子披露，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开(kāi)支(zhī)合计为75％。自(zì)长江存储被(bèi)加入美国限制(zhì)名(míng)单，设备(bèi)国产化进程加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉(chén)积）等相(xiāng)关公(gōng)司份额提升，以(yǐ)及存(cún)储业务(wù)占(zhàn)比较高的华(huá)海清(qīng)科（CMP）、盛(shèng)美上海（清洗(xǐ)）等收入增(zēng)长。

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