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哥呀是什么鱼怎么叫 戈雅鱼是淡水鱼吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大(dà)家好,来看一则(zé)突发消(xiāo)息。

  美(měi)光公(gōng)司(sī)在华销售的产品未通过网络(luò)安全审(shěn)查

  据网信办(bàn)消(xiāo)息,日前,网络安全审查办公室依法对(duì)美光(guāng)公司(sī)在华销售产品(pǐn)进行了网络安全(quán)审(shěn)查。

  审查发现,美光公司产(chǎn)品存在(zài)较严重网络(luò)安全问题隐(yǐn)患,对我国(guó)关(guān)键信息基础设(shè)施供应链造成重大安(ān)全风险,影响(xiǎng)我国国家安全。为此(cǐ),网络(luò)安全审(shěn)查办公室依法作出不予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论。按照《网络安全法(fǎ)》等(děng)法律法规,我国内关键信息基(jī)础设施的运营者应停止(zhǐ)采购美(měi)光公司产品。

  此次对美光公哥呀是什么鱼怎么叫 戈雅鱼是淡水鱼吗(gōng)司产品进(jìn)行网(wǎng)络(luò)安全审查(chá),目的是防范产品网络安全问题危害国家关(guān)键信息基础(chǔ)设施(shī)安全,是维护国家(jiā)安全(quán)的(de)必要措施。中国坚定推进高水平对(duì)外开放(fàng),只(zhǐ)要遵(zūn)守中国法律法规要求,欢迎各国(guó)企业、各类平台产品(pǐn)服务进入中国市场。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止(zhǐ)采购!

  3月31日(rì),中国网信网发文称(chēng),为保障关键信息基础设施供应链安全,防范产品问(wèn)题隐患造成网络安全风(fēng)险,维护国家安全,依据《中华人民共和国(guó)国家安(ān)全法》《中华(huá)人民(mín)共和国(guó)网络(luò)安全法(fǎ)》,网络(luò)安全审查办公(gōng)室按照(zhào)《网络(luò)安(ān)全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售(shòu)的产品实施网络安(ān)全(quán)审查。

  半导体突发!中(zhōng)国出手:停止采购(gòu)!

  美(měi)光是美国的存储芯片行业龙(lóng)头,也是全球存储芯片巨头(tóu)之一,2022年收入来(lái)自中(zhōng)国(guó)市场(chǎng)收入(rù)从此前高峰57%降(jiàng)至2022年(nián)约11%。根据市(shì)场咨询机(jī)构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部(bù)数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存(cún))市(shì)场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光(guāng)在全球 DRAM (内存)市(shì)场份额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市(shì)公司中(zhōng),江波龙(lóng)、佰维存(cún)储等(děng)公(gōng)司披露过美光等国际存储(chǔ)厂商为公(gōng)司供(gōng)应商(shāng)。

  美光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降,至少已经不是主要大供(gōng)应商(shāng)。

  公(gōng)告显示, 2021年美光位(wèi)列江(jiāng)波(bō)龙第一大存(cún)储晶圆供(gōng)应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和第三大(dà)供应商采购金额占比分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经(jīng)在存储产业链(liàn)上下(xià)游建立国(guó)内外(wài)广泛合作。2022年(nián)年(nián)报显(xiǎn)示,江波龙与三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署(shǔ)了长期合约,确保存储晶圆供应的稳定性,巩(gǒng)固公(gōng)司在(zài)下游市场的供应优势,公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥(féi)长鑫(xīn)保持(chí)良好的合作。

  有券商此前就分析,如果美光在中国区销售受(shòu)到(dào)限制,或将导致下游客户(hù)转而采购国(guó)外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储等哥呀是什么鱼怎么叫 戈雅鱼是淡水鱼吗竞对产品

  分(fēn)析称,长存、长鑫的上游设(shè)备厂(chǎng)或从中受益。存储器的(de)生产已(yǐ)经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAN哥呀是什么鱼怎么叫 戈雅鱼是淡水鱼吗D Flash现在(zài)已经(jīng)进入3D NAND时代,2 维到3维(wéi)的(de)结(jié)构转变使刻蚀和薄(báo)膜成为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每(měi)层均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿(yán)要刻到 60:1的深孔,未来可能(néng)会更深的(de)孔或者沟(gōu)槽,催生更多(duō)设(shè)备需求。据东京电子(zi)披露,薄膜沉积设(shè)备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支(zhī)合计为75%。自长江存储被加(jiā)入美国限制(zhì)名单,设备国(guó)产化进程加速,看好拓荆(jīng)科技(薄膜沉积(jī))等相关公司份额提升,以(yǐ)及存储业务(wù)占(zhàn)比(bǐ)较高的华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增长。

 

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