太仓网站建设,太仓网络公司,太仓网站制作,太仓网页设计,网站推广-昆山云度信息科技有限公司太仓网站建设,太仓网络公司,太仓网站制作,太仓网页设计,网站推广-昆山云度信息科技有限公司

日语jtest报名入口,日语jtest报名费

日语jtest报名入口,日语jtest报名费 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息(xī),国家知识产权局局长申长(zhǎng)雨在新闻发(fā)布会上表示,将统筹推进各类知(zhī)识产权(quán日语jtest报名入口,日语jtest报名费)法律法规和制(zhì)度规则的制修订工(gōng)作。其中,修改完善集成电(diàn)路布图设计(jì)保护(hù)条例(lì),适应(yīng)大规模(mó)集成电(diàn)路发展(zhǎn)需要,助力(lì)芯片产业做大做强,服务(wù)数(shù)字经济更好发展。

  加(jiā)强大数据、人工智能、基因技(jì)术(shù)等新领域新业(yè)态知识产权规(guī)则研究,助力(lì)相(xiāng)关领域创新(xīn)发展。同时,积极参与知识产权国际规(guī)则制定,更好对接高标准国际经(jīng)贸规则(zé),助力高水平对外(wài)开放(fàng)。

未经允许不得转载:太仓网站建设,太仓网络公司,太仓网站制作,太仓网页设计,网站推广-昆山云度信息科技有限公司 日语jtest报名入口,日语jtest报名费

评论

5+2=