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保温杯一般可以用几年,保温杯一般用几年换一次

保温杯一般可以用几年,保温杯一般用几年换一次 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则突发(fā)消息。

  美光公司在华(huá)销售的(de)产品(pǐn)未(wèi)通(tōng)过网络安全(quán)审查

  据(jù)网信(xìn)办消息,日前,网络(luò)安全审查(chá)办公室依法对美(měi)光公司在华销售产品进行了网络(luò)安全审查(chá)。

  审查(chá)发现,美光公(gōng)司产品存在较严(yán)重网络(luò)安全问题隐患,对我国关键信息基础设施(shī)供(gōng)应(yīng)链造成重大安(ān)全风险(xiǎn),影响(xiǎng)我国国家(jiā)安全。为此(cǐ),网络安全审查办公室依法作出不予通过(guò)网络安全(quán)审查的结论。按照《网络(luò)安全法》等法律法规,我国内关(guān)键信息基(jī)础设施的运营者(zhě)应停(tíng)止采购美光公司产(chǎn)品。

  此(cǐ)次对(duì)美光公司产品进行网络安全审(shěn)查,目的是(shì)防范产品网(wǎng)络安全问(wèn)题危害国家关键信息基(jī)础设施安全(quán),是(shì)维护国(guó)家安全的必要措施。中国坚定推进高水平对外(wài)开(kāi)放,只要遵(zūn)守中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类平台产品服务进入中国(guó)市场。

  半(bàn)导(dǎo)体突发!中国出手:停(tíng)止采购!

  3月31日,中(zhōng)国网(wǎng)信网发文称(chēng),为保障(zhàng)关键信息基础设施供应(yīng)链安全,防范(fàn)产品(pǐn)问题隐(yǐn)患造成网络安全风险,维护国家(jiā)安全(quán),依(yī)据《中(zhōng)华(huá)人民共(gòng)和(hé)国国家安全法》《中华人民(mín)共和国网络(luò)安全法》,网络安全审查办公室按(àn)照《网(wǎng)络安全审查办法(fǎ)》,对(duì)美光公司(Micron)在华销售的产品实施网络安全审查。

  半导(dǎo)体(tǐ)突发!中(zhōng)国(guó)出手(shǒu):停止采购!

  美(měi)光(guā保温杯一般可以用几年,保温杯一般用几年换一次ng)是美国的存(cún)储芯片行业龙头,也是全球存储芯片(piàn)巨头之一(yī),2022年(nián)收入来自中国市场收(shōu)入从(cóng)此前高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三星(xīng)电子(zi)、 铠(kǎi)侠、西(xī)部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存)市场份(fèn)额约为 96.76%,三星电子(zi)、 SK 海(hǎi)力(lì)士、美光在(zài)全球 DRAM (内存)市场份(fèn)额(é)约(yuē)为 94.35%。

  A股上市(shì)公司中,江(jiāng)波龙、佰维存储(chǔ)等公司披露(lù)过美光(guāng)等国际存储厂商为(wèi)公司供(gōng)应(yīng)商。

  美光在江波龙采购占比已经显著下降,至少(shǎo)已经不是(shì)主要大供应商。

  公告(gào)显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿(yì)元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第(dì)二大和第三大供(gōng)应商(shāng)采购金(jīn)额占比分别(bié)是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目(mù)前江(jiāng)波龙已经在存储产(chǎn)业链上下游建立国内外广泛(fàn)合作。2022年年(nián)报显示,江波龙与三星、美光、西部数(shù)据(jù)等主要存(cún)储晶圆原厂签署(shǔ)了长期合(hé)约,确保存储晶圆(yuán)供(gōng)应的稳定性,巩(gǒng)固(gù)公司(sī)在下游市场的供应(yīng)优势,公(gōng)司也与国内国产存储晶圆原(y保温杯一般可以用几年,保温杯一般用几年换一次uán)厂武汉长江存(cún)储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

  有(yǒu)券商(shāng)此前(qián)就分析,如果(guǒ)美(měi)光在中国区销售(shòu)受(shòu)到限制,或(huò)将导致下游客户转而采购国外(wài)三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫(xīn)存储等竞对(duì)产品

  分析称,长存、长鑫的(de)上游设(shè)备厂或从(cóng)中受(shòu)益。存储器的生产(chǎn)已(yǐ)经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代(dài),2 维到3维(wéi)的结构(gòu)转变使刻蚀和薄(báo)膜成为最关键、最大量的(de)加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿要(yào)刻到 60:1的深孔,未(wèi)来可能会更深的孔或者(zhě)沟槽,催生(shēng)更多设备需求。据东(dōng)京电子(zi)披露,薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资(zī)本开支合计(jì)为75%。自长江(jiāng)存储被加入美国限制(zhì)名(míng)单,设备国产(chǎn)化进程加(jiā)速(sù),看好拓(tuò)荆科技(薄膜沉积)等(děng)相关(guān)公(gōng)司份(fèn)额提升,以(yǐ)及存储业(yè)务占比较高(gāo)的华海清(qīng)科(CMP)、盛(shèng)美上海(清洗)等收入增长。

 

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