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i 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权局(jú)局长申(shēn)长雨在新闻发布会上表示(shì),将统筹推进(jìn)各类知识产权法律(lǜ)法(fǎ)规和(hé)制度规则的制修订工(gōng)作。其中,修改完善集(jí)成电路布图设计保(bǎo)护条例,适应大规模(mó)集成电路发展需要,助力芯片产(chǎn)业(yè)做(zuò)大做强(qiáng),服务数(shù)字经济更(gèng)好(hǎo)发展。

  加(jiiā)强大数据(jù)、人工智能、基因技术等新(xīn)领域新(xīn)业态知识产(chǎn)权规(guī)则研究,助力(lì)相关领域创(chuàng)新发展。同(tóng)时,积极参与知识产权国际规则(zé)制(zhì)定,更好对(duì)接(jiē)高标(biāo)准国际经贸规则,助力高水平(píng)对外开(kāi)放。

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