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太深是一种什么体验,太深是不是不好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长申长雨在新(xīn)闻发布会上表示,将统(tǒng)筹推进各类知识(shí)产权法律法规和制度(dù)规则的(de)制修订工作。其中,修改完(wán)善集成电路布(bù)图设计(jì)保护条例,适应大规模集成电路(lù)发(fā)展(zhǎn)需要,助力芯片(piàn)产业做大做强太深是一种什么体验,太深是不是不好,服务数字经济(jì)更好发(fā)展。

  加强(qiáng)大数据、人(rén)工智能(néng)、基因技术等新领域新业态知识产权(quán)规则研究,助(zhù)力相关领域创新发展(zhǎn)。同时(shí),积极参(cān)与知识产权(quán)国际规则制(zhì)定,更好对接高标准国际经贸规则,助(zhù)力高水平对外(wài)开放。

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