大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司在华销售的(de)产品未通过网络安全审查

　　据(jù)网信办消息，日前，网络安(ān)全(quán)审查办公室依法对美光(guāng)公司在华销(xiāo)售(shòu)产品进行了网络安全审查。

　　审(shěn)查发(fā)现，美光公(gōng)司产品存(cún)在较严重网络安全问题隐患，对我国关(guān)键(jiàn)信(xìn)息基础设施供(gōng)应链(liàn)造成重大安全风(fēng)险，影响我国(guó)国家安全。为此，网络安全审查办公室依(yī)法(fǎ)作出(chū)不予通过网(wǎng)络安全审查(chá)的(de)结论。按(àn)照《网络(luò)安全法(fǎ)》等法律法规，我国内关键信息基础设施的运营者应停止采购美(měi)光公(gōng)司产品。

　　此次对美光公(gōng)司产品进行网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查(chá)，目的是防范产品网(wǎng)络(luò)安(ān)全问题(tí)危害国家关(guān)键(jiàn)信息基础(chǔ)设(shè)施安全，是维护国家(jiā)安全的(de)必(bì)要措施。中国坚定(dìng)推进高水平对外(wài)开放，只要遵守中(zhōng)国法律(lǜ)法规(guī)要求，欢迎(yíng)各国企业、各(gè)类平台产品服(fú)务(wù)进入中(zhōng)国(guó)市场。

　　3月31日，中国网信网(wǎng)发文称，为保(bǎo)障关键(jiàn)信息基础设(shè)施供应链安全，防范产品问题隐(yǐn)患造成(chéng)网络安全风(fēng)险(xiǎn)，维护国家安全(quán)，依据《中华人民(mín)共和国国(guó)家安全法》防晒衣买什么颜色的好，七种颜色防紫外线排行《中(zhōng)华人(rén)民共和国(guó)网络安全法》，网络安全审(shěn)查办(bàn)公室按照《网络安全(quán)审查办法》，对(duì)美光公司（Micron）在(zài)华销售的产品实施网络安全(quán)审查。

　　美光是美国的存储芯片行业龙头，也(yě)是全(quán)球存储芯片巨头之一(yī)，2022年收入(rù)来自(zì)中国市场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场咨(zī)询(xún)机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据(jù)、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪(shǎn)存）市(shì)场份额(é)约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存）市场(chǎng)份额(é)约为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙、佰维(wéi)存储等公司披(pī)露过美光等国(guó)际存储厂商为公司供应商。

　　美光在江波龙(lóng)采购占比已经显著(zhù)下降，至少已经不是主(zhǔ)要(yào)大供应商(shāng)。

　　公(gōng)告显示， 2021年美光位列江波龙第一(yī)大(dà)存(cún)储晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第(dì)一(yī)大(dà)、第二大和第三(sān)大供应商采(cǎi)购金额占比(bǐ)分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在存储产业链上下(xià)游建立(lì)国内外广泛合作。2022年(nián)年报(bào)显示(shì)，江波龙(lóng)与三星、美光、西部数据(jù)等主要(yào)存(cún)储晶圆(yuán)原(yuán)厂(chǎng)签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳定性，巩(gǒng)固公司在下游(yóu)市场的供(gō防晒衣买什么颜色的好，七种颜色防紫外线排行ng)应优势，公司也与国内国产(chǎn)存储晶圆原厂武汉长江存(cún)储、合肥长鑫(xīn)保(bǎo)持良(liáng)好的(de)合作。

　　有券商此前(qián)就分析，如果美光(guāng)在中国(guó)区销(xiāo)售受到限(xiàn)制，或将(jiāng)导致下(xià)游(yóu)客户转而采(cǎi)购国(guó)外三星、 SK海力士，防晒衣买什么颜色的好，七种颜色防紫外线排行国(guó)内长(zhǎng)江存储(chǔ)、长鑫存储等竞(jìng)对产品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的上(shàng)游设(shè)备厂或(huò)从中(zhōng)受益。存(cún)储器的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构(gòu)转变(biàn)使(shǐ)刻蚀和(hé)薄(báo)膜成为(wèi)最关键(jiàn)、最(zuì)大量(liàng)的加工设备。3D NAND每(měi)层均(jūn)需(xū)要(yào)经过(guò)薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同(tóng)时刻蚀目前前沿要(yào)刻(kè)到 60：1的(de)深孔，未来可能会(huì)更深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽，催(cuī)生更多设备需求。据东京电(diàn)子披露，薄膜(mó)沉积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线(xiàn)资本开支合计为75％。自长江存(cún)储被加入美国(guó)限(xiàn)制名单，设备国产化(huà)进程加速，看好拓荆(jīng)科(kē)技（薄膜沉积）等相关(guān)公司份(fèn)额提(tí)升，以及存储业务占比较高的华(huá)海清科(kē)（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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