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二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥 经济日报刊文:日本限制半导体设备出口必遭反噬

  5月23日,日本(běn)经济产业省宣布修正了所谓强化(huà)高性能(néng)半导体制造装(zhuāng)置出口(kǒu)管制措施(shī)的(de)省令,并明确将于7月23日实(shí)施。日本此举定会对(duì)自身(shēn)经济、科(kē)技发展(zhǎn)和国际形象造成反(fǎn)噬效应,最终得(dé)不偿(cháng)失(shī)。

  日(rì)本(běn)经济产业(yè)大臣西村康稔曾在(zài)公布规则方案时称“我们(men)的出(chū)口限制并不(bù)针对某(mǒu)一特定国家”,但这种(zhǒng)“此地无银三百(bǎi)两(liǎng)”的说(shuō)法显(xiǎn)然没(méi)有说(shuō)服力(lì)。

  事实上,日本政府(fǔ)限制高(gāo)性能(néng)半导体设备出口指向明确(què),意图清晰。从去年(nián)10月(yuè)份开始(shǐ),美国就对华实(shí)施了16纳米以下半导体设备出口(kǒu)管制措(cuò)施,并多次诱压日本、荷兰等(děng)在半导体设备领域具有优势地位的国家紧(jǐn)跟其脚步(bù),形(xíng)成美日荷半导(dǎo)体遏(è)华同盟(méng),试图(tú)通过出口管制(zhì)阻断中国在(zài)尖端半导体(tǐ)领域的技术发(fā)展进(jìn)程。日本此次也正(zhèng)是顺(shùn)应美国政府要求(qiú),强化对抗中(zhōng)国的姿态(tài),与美国沆瀣一气,将经贸和科技问题政治化、工具化、武器化,强行割裂半导(dǎo)体全(quán)球大市场,塑造封闭“小圈子”,加大尖端(duān)半导体(tǐ)领域对华遏制(zhì)打压力度。

  从西村(cūn)康(kāng)稔的(de)解释来看(kàn),日本政府显然在随(suí)美遏华上底(dǐ)气不足。一方面(miàn),日本政府难(nán)以承受正面对抗中国的后果。多家日(rì)本媒体报道认为(wèi),虽然此次管制措施未点名中国,但(dàn)一(yī)定(dìng)会引发中国的(de)“强烈反(fǎn)制(zhì)措施”。中国商务(wù)部在5月23日(rì)的答记者问中(zhōng)已经(jīng)明确,中方将(jiāng)保留(liú)采(cǎi)取措施的权利,坚决维护自身(shēn)合法(fǎ)权益。而近日中(zhōng)国关键基础设施停购美光科技(jì)产品,也足以证(zhèng)明中(zhōng)国在(zài)半(bàn)导体(tǐ)反制(zhì)方面的工(gōng)具储备十分丰(fēng)富。

  另(lìng)一(yī)方面(miàn),日本政府强行随美起舞只会损害本国(guó)经济利(lì)益。在限制出口规则实施后(hòu),日本东京(jīng)电子、尼康等(děng)十(shí)几家企(qǐ)业的经营将受到直接影响(xiǎng)。而自美国去年10月(yuè)实(shí)施对(duì)华出口管制以来,日(rì)本(běn)半导体企业(yè)整体对华(huá)出口额已呈下(xià)降趋势。5月23日(rì)修正案公布后,多(duō)家(jiā)日半导体(tǐ)企(qǐ)业股价下跌。对华出(chū)口管制(zhì)造成的(de)不安全感(gǎn),将迫使(shǐ)日半导(dǎo)体企业调整长期经营战略,为日本半导体(tǐ)产业的未二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥来发展增添了极(jí)大不确定性。

  长(zhǎng)久(jiǔ)以来(lái),中日(rì)两国(guó)在半导体(tǐ)领域分(fēn)工明确,合作紧密,为(wèi)世界半导体产(chǎn)业发展和国际市(shì)场稳定作出了突出贡献。然而,为配合美遏华举措,日本政府近年来不惜挥舞(wǔ)经(jīng)济安保大(dà)棒实施“无差别攻(gōng)击(jī)”,这既打伤了中日半导体等经贸科技领域合(hé)作的(de)良(二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥;'>二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥liáng)好基(jī)础,更打伤了日本本(běn)国企(qǐ)业(yè)的发展信(xìn)心和(hé)前(qián)景。希望日本政府尽快修正错(cuò)误(wù),回到中日合作共赢的正轨。

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