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发奋还是发愤读书啊,发奋还是发愤图强 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日(rì)消(xiāo)息(xī),国家知识产权(quán)局局长申长雨在新(xīn)闻(wén)发布(bù)会上表示,将统筹推(tuī)进各类(lèi)知识(shí)产(c发奋还是发愤读书啊,发奋还是发愤图强hǎn)权法律法规和制度规(guī)则的制修订工作(zuò)。其中(zhōng),修改完(wán)善集成电路布图设计保护条例,适应大规(guī)模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做(zuò)强,服(fú)务数字经(jīng)济更好发展(zhǎn)。

  加强大数据(jù)、人(rén)工智能(néng)、基因技术等新领域新业态(tài)知识(shí)产权规则研究(jiū),助力相关领域创(chuàng)新发(fā)展。同时,积极参与知(zhī)识产(chǎn)权国际规(guī)则制定,更好(hǎo)对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放(fàng)。

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