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　　美光公司在华(huá)销售的产品未通过网络安全审(shěn)查

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网(wǎng)络安全(quán)审(shěn)查办公室依法(fǎ)对美岳飞是哪个朝代的人，岳飞是哪个朝代的皇上光公司在华(huá)销(xiāo)售产品进(j岳飞是哪个朝代的人，岳飞是哪个朝代的皇上ìn)行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公(gōng)司产品(pǐn)存在(zài)较严重(zhòng)网络安(ān)全问题隐患，对我国关键(jiàn)信息基础(chǔ)设(shè)施供应链造(zào)成重大安全风险，影响(xiǎng)我国国家安全。为(wèi)此，网络(luò)安全审(shěn)查办公(gōng)室依法作出不予通(tōng)过(guò)网(wǎng)络安全(quán)审查的(de)结论。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规，我国内关键信息基(jī)础设施的运营者应停(tíng)止采购(gòu)美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)。

　　此次(cì)对美光公司产品进行网络安(ān)全审查(chá)，目的是防范(fàn)产品网(wǎng)络安全(quán)问(wèn)题危(wēi)害国家关键信(xìn)息基础设施(shī)安全，是维护国家安(ān)全的必(bì)要措施。中国坚定推进(jìn)高水平对外开放(fàng)，只要(yào)遵守中国法律法规要求，欢迎各国企业、各类(lèi)平台产品服务进入中国市(shì)场。

　　3月31日，中国网信网发文(wén)称(chēng)，为保障关键(jiàn)信息基础设施(shī)供应链安全，防范产品问题(tí)隐患造成网络安全风险，维(wéi)护国家(jiā)安全，依据《中华(huá)人民共和国国家安全法》《中华人民共和国网络安全法》，网(wǎng)络安(ān)全审(shěn)查办公(gōng)室(shì)按照《网络安全(quán)审查(chá)办法》，对(duì)美光公司(sī)（Micron）在华销售的(de)产品(pǐn)实施(shī)网络安全审(shěn)查。

　　美光(guāng)是美(měi)国的(de)存储芯片行业龙头，也是全(quán)球存储芯片(piàn)巨(jù)头之一，2022年收入来自中国市(shì)场收入(rù)从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额(é)约为 96.76％，三(sān)星电子(zi)、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光在(zài)全(quán)球 DRAM （内存(cún)）市场(chǎng)份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上市公司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等(děng)公司披露过美光(guāng)等国际存储厂商为公(gōng)司供(gōng)应(yīng)商。

　　美光(guāng)在江波(bō)龙(lóng)采购占比已经显著下降，至少已经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年(nián)美光位列江波龙第(dì)一大存储晶(jīng)圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年(nián)，江波龙第一大、第二大和第三大(dà)供应商采购金额(é)占(zhàn)比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前江波龙已经在(zài)存储产业(yè)链上下游建立国内外广(guǎng)泛合(hé)作。2022年年报(bào)显示，江波(bō)龙与三星(xīng)、美光、西部数据等主要(yào)存储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应(yīng)的稳定性，巩固公(gōng)司(sī)在(zài)下游市场的供(gōng)应(yīng)优势，公司也与国内国产存储晶(jīng)圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

　　有券商此前(qián)就(jiù)分(fēn)析，如果美光在中国(guó)区(qū)销售受到限制，或将(jiāng)导致(zhì)下游(yóu)客户(hù)转而(ér)采购国外三星、 SK海力士，国(guó)内长江(jiāng)存储、长鑫存储等竞对产品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的(de)上游设备厂或从中受益(yì)。存储器的生产已经演进到(dào)1岳飞是哪个朝代的人，岳飞是哪个朝代的皇上Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代，2 维到3维(wéi)的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜(mó)成为最关(guān)键(jiàn)、最大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同时刻(kè)蚀(shí)目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔(kǒng)，未(wèi)来可(kě)能(néng)会更深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽，催生更多设备(bèi)需(xū)求。据东京电(diàn)子披露，薄膜沉积设备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线(xiàn)资本开支(zhī)合(hé)计(jì)为75％。自(zì)长江存储被加入美国限制(zhì)名单，设备(bèi)国产化(huà)进(jìn)程加速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司份额提(tí)升，以(yǐ)及存(cún)储(chǔ)业务占比(bǐ)较高的华海(hǎi)清科（CMP）、盛美上海（清(qīng)洗）等收入(rù)增(zēng)长。

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